回路パターンの検査装置および検査方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-340292
公開番号（公開出願番号）：特開2000-162143
出願日： 1998年11月30日
公開日（公表日）： 2000年06月16日
要約：

【要約】【課題】セル領域の設定を使い勝手がよく、かつ迅速に行うことのできる回路パターンの検査装置および検査方法を提供することを目的とする。【解決手段】図8は、セル情報の設定に使用するマップ内マップ画面を表わす。セル情報の画面では、チップ内に配列されているセル領域を、画像で指定しながら設定していく。さらに、セル領域内のセルピッチを入力する。回路パターンの検査装置は、セル領域の設定手段を有し、セル領域の設定のための作成ツールを、ウエハマップを表示する画面と共に表示する表示装置を有し、かつ該作成ツールは、(ア)矩形,矩形ライン,矩形エリア,ミラー反転設定(イ)複写,削除,移動,トレース機能を使用した後戻りによる設定(ウ)セル領域のグループ化機能による複写,削除,移動設定から構成される個々の組合せの1つまたは2つ以上のセル領域作成手段を有する。このようなセル領域の設定は「SEM」画像によるばかりでなく「光顕」画像あるいはレーザ光画像についても適用できる。

請求項（抜粋）：

ウエハの回路パターンが形成された基板表面に光,レーザ光あるいは荷電粒子線を照射する照射手段と、該照射によって基板から発生する信号を検出する検出手段と、該検出手段によって検出された信号を画像化して記憶する記憶手段と、該記憶された画像を他の同一の回路パターンから形成された画像と比較する比較手段と、および比較結果から回路パターン上の欠陥を判別する判別手段とを備えた回路パターンの検査装置において、セル領域の設定手段を有し、セル領域の設定のための作成ツールを、ウエハマップを表示する画面と共に表示する表示装置を有することを特徴とする回路パターンの検査装置。

IPC (3件)：

G01N 21/88 , G01B 11/00 , G01B 11/30

FI (3件)：

G01N 21/88 645 A , G01B 11/00 H , G01B 11/30 A

Fターム (30件)：

2F065AA61 , 2F065CC18 , 2F065CC19 , 2F065FF04 , 2F065GG00 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065PP12 , 2F065PP24 , 2F065QQ24 , 2F065QQ32 , 2F065RR02 , 2F065RR03 , 2F065SS02 , 2F065SS13 , 2G051AA51 , 2G051AB07 , 2G051AC04 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051DA08 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051ED01 , 2G051ED12 , 2G051FA04 , 2G051GC04 , 2G051GC13 , 2G051GD05 , 2G051GD09

引用特許：

審査官引用 (3件)

半導体装置不良解析システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-253772 出願人：株式会社日立製作所
特開平3-232250
集積回路装置の故障解析装置及び故障解析方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-090187 出願人：日本電気株式会社

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