特許

J-GLOBAL ID：200903035991004711

硫酸製造のための反応槽、プラント及び方法

発明者： ダウレーン,ラルス
出願人/特許権者： エドメストン アクティエボラーグ
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-513139
公開番号（公開出願番号）：特表平9-507208
出願日： 1995年10月03日
公開日（公表日）： 1997年07月22日
要約：

【要約】新規な化学反応槽(43)として、接触法による硫酸の製造用のプロセスプラントに適したものが提供される。これは円筒形包囲面を含み、垂直な仕切壁により少なくとも2個のセクション、通常的には3個のセクションに分割されている。各セクションは導入孔と排出孔を有し、仕切壁がその底部において異なるセクション間の接触を可能にする1以上の孔を有している。この利点はプロセスガスの乾燥工程とインターパス吸収工程と最終吸収工程とがこれまでのような3台の個別の反応器に代え同一の反応器で実行され得ることにある。これはスペースと材料の両方を節約する。更に、接触法による硫酸の製造方法とプラントが提供される。このプラントと製法は上記反応槽を含んで成る。

請求項（抜粋）：

接触式硫酸製造等の化学プロセス用プラントにおける、実質的に円筒形状の包囲面を含んで成る反応槽において、 反応槽(43)が1以上の実質的に垂直な仕切壁(46)によって少なくとも2個のセクションに分割されていて、各セクションが少なくとも1つの導入孔(50)と排出孔(51)を有しており、仕切壁(46)がセクション間の接触を可能にするためにセクション底に1以上の孔(45)を有していることを特徴とする反応槽。

IPC (3件)：

C01B 17/80 ,  B01J 19/00 ,  C01B 17/76

FI (3件)：

C01B 17/80 Z ,  B01J 19/00 Z ,  C01B 17/76 A