特許

J-GLOBAL ID：200903035992865176

露光装置

発明者： 柴田 浩匡
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 稲本 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-125699
公開番号（公開出願番号）：特開平9-312248
出願日： 1996年05月21日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：

【要約】【課題】 ウエハの両面に高い精度で露光を行う【解決手段】 ウエハ11の一方の面にアライメントマークを形成し、アライメント顕微鏡17a,17bによりアライメントを行い、露光を行う。露光終了後は、ウエハ搬送アーム24により、ウエハ11を反転させ、アライメント顕微鏡17c,17dによりアライメントを行い、他方の面に対して露光を行う。

請求項（抜粋）：

半導体基板とマスクの相対的な位置関係を制御し、露光を行う露光装置において、前記半導体基板に対して前記マスクを介して露光を行う露光手段と、前記半導体基板が配置されるステージと、前記ステージの基準位置を示すフィデューシャルマークと、一方の面が前記露光手段に対向するように前記半導体基板が前記ステージ上に配置された場合に、前記フィデューシャルマークと前記半導体基板の相対的な位置関係を測定する第1の測定手段と、前記第1の測定手段の測定結果に応じて、前記マスクと前記半導体基板の相対的な位置関係を制御する第1の制御手段と、他方の面が前記露光手段に対向するように前記半導体基板が前記ステージ上に配置された場合に、前記フィデューシャルマークと前記半導体基板の相対的な位置関係を測定する第2の測定手段と、前記第2の測定手段の測定結果に応じて、前記マスクと前記半導体基板の相対的な位置関係を制御する第2の制御手段とを備えることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (7件)：

H01L 21/30 506 K ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 506 B ,  H01L 21/30 506 H ,  H01L 21/30 506 N ,  H01L 21/30 507 A ,  H01L 21/30 510