特許

J-GLOBAL ID：200903035994085941

光導波路、製造方法、および光素子

発明者： 古川 保典 ,  佐藤 正純 ,  二反田 文雄 ,  伊藤 康平
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
代理人 (1件)： 大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-115748
公開番号（公開出願番号）：特開平5-313033
出願日： 1992年05月08日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：

【要約】【目的】 耐光損傷特性に優れたニオブ酸リチウム単結晶及びこれを用いた光素子を提供する。【構成】 コングルエント組成ニオブ酸リチウム単結晶またはタンタル酸リチウム単結晶の基板上に、五酸化バナジウム(V2O5)もしくは、三酸化ボロン(B2O3)もしくは(LiF)もしくは五酸化モリブデン(Mo2O5)もしくは五酸化タングステン(W2O5)のいづれか1種類もしくは2種類以上のフラックスを用いたLPE法あるいは気相成長法で結晶組成がコングルエント組成よりもリチウム成分が少ないLi2O/(Li2O+Nb2O5)のモル分率で0.45より大きく0.486より小さい範囲のニオブ酸リチウム単結晶の光導波路を形成し、さらにSHG素子または光変調素子にこの光導波路を用いる。

請求項（抜粋）：

光導波路の組成がコングルエント組成よりもリチウム成分が少ないLi2O/(Li2O+Nb2O5)のモル分率で0.45より大きく0.486より小さい範囲のニオブ酸リチウム単結晶の組成であることにより耐光損傷強度に優れたことを特徴とするニオブ酸リチウム単結晶の光導波路。

IPC (3件)：

G02B 6/12 ,  G02F 1/37 ,  H01S 3/109