特許
J-GLOBAL ID:200903036002453886

アセチレン誘導体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 最上 正太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-085375
公開番号(公開出願番号):特開2000-128807
出願日: 1999年03月29日
公開日(公表日): 2000年05月09日
要約:
【要約】【課題】特殊な設備も必要とせず、ワンポットで容易に経済的に、アセチレン誘導体を工業的に製造する方法を提供する。【解決手段】 分子式中に、一般式(1)【化1】で表される骨格を有する化合物に、一般式(2)【化2】(式中、R1、R2、R3及びR4は、炭素原子数1〜6のアルキル基又はアリール基を示し、互いに同じでも、異なっていてもよい。又、R1とR3は結合して環を構成していてもよく、R1とR2又はR3とR4が結合して1個又は2個のヘテロ環を構成してもよい。)で表される化合物又は一般式(3)【化3】(式中、R1、R2、R3及びR4は、一般式(2)と同じであり、X1は塩素原子、臭素原子または沃素原子を表す。)で表される化合物を作用させるてアセチレン誘導体の製造する。120
請求項(抜粋):
分子式中に、式(1)【化1】で表される、骨格を有する化合物に、一般式(2)【化2】(式中、R1、R2、R3及びR4は、炭素原子数1〜6のアルキル基又はアリール基を示し、互いに同じでも、異なっていてもよい。又、R1とR3は結合して環を構成していてもよく、R1とR2又はR3とR4が結合して1個又は2個のヘテロ環を構成してもよい。)で表される化合物又は一般式(3)【化3】(式中、R1、R2、R3及びR4は、一般式(2)と同じであり、X1は塩素原子、臭素原子または沃素原子を表す。)で表される化合物を作用させることを特徴とするアセチレン誘導体の製造方法。
IPC (9件):
C07C 1/207 ,  C07C 1/24 ,  C07C 11/22 ,  C07C 15/48 ,  C07C 15/54 ,  C07C 37/00 ,  C07C 39/18 ,  C07C201/12 ,  C07C205/06
FI (9件):
C07C 1/207 ,  C07C 1/24 ,  C07C 11/22 ,  C07C 15/48 ,  C07C 15/54 ,  C07C 37/00 ,  C07C 39/18 ,  C07C201/12 ,  C07C205/06
Fターム (5件):
4H006AA02 ,  4H006AC13 ,  4H006FC52 ,  4H006FC80 ,  4H006FE13
引用特許:
審査官引用 (2件)

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