特許
J-GLOBAL ID：200903036007322186
マスクブランク用透明基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用マスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
阿仁屋 節雄
, 油井 透
, 清野 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-050936
公開番号（公開出願番号）：特開2006-235321
出願日： 2005年02月25日
公開日（公表日）： 2006年09月07日
要約：
【課題】 露光装置にセットしたときの透明基板の平坦度をシミュレーションにより高精度に算出してマスクブランクを製造できること。【解決手段】 主表面が精密研磨された透明基板を準備する準備工程S1と、露光装置のマスクステージに当接する透明基板の主表面における複数の測定点の高さ情報を表面形態情報として取得する表面形態情報取得工程S2と、この表面形態情報とマスクステージの形態情報とに基づき、透明基板を露光装置にセットしたときの複数の測定点の高さ情報をシミュレーションして得るシミュレーション工程S3と、このシミュレーションして得た高さ情報に基づき、透明基板を露光装置にセットしたときの当該透明基板の平坦度を算出する平坦度算出工程S4と、この平坦度が仕様に適合するか否かを判定する判定工程S5と、平坦度が仕様に適合する透明基板の主表面にマスクパターンとなる薄膜を形成する薄膜形成工程S6とを有するものである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
主表面が精密研磨された透明基板を準備する準備工程と、
露光装置のマスクステージに当接する上記透明基板の上記主表面における所定領域内に設けられた複数の測定点の基準面からの高さ情報を、当該主表面の表面形態情報として取得する表面形態情報取得工程と、
この表面形態情報取得工程で得た表面形態情報と、当該透明基板の上記主表面に当接する領域を含む上記マスクステージの形状情報とに基づき、当該透明基板を上記露光装置にセットしたときにおける複数の上記測定点の基準面からの高さ情報をシミュレーションして得るシミュレーション工程と、
このシミュレーション工程により得た基準面からの高さ情報に基づき、露光用マスクの転写領域を含む所定領域における最大値と最小値との差を求めて、露光装置に当該透明基板をセットしたときの当該透明基板の平坦度を算出する平坦度算出工程と、
この平坦度算出工程で算出した平坦度が仕様に適合するか否かを判定する判定工程と、を有することを特徴とするマスクブランク用透明基板の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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