特許
J-GLOBAL ID:200903036021114146

表面処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 茂明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-108875
公開番号(公開出願番号):特開平5-152423
出願日: 1992年03月31日
公開日(公表日): 1993年06月18日
要約:
【要約】【目的】 ウエハの表面処理工程におけるウエハの脱落を検知し、ウエハの損傷を未然に防止する表面処理装置を提供する。【構成】 複数枚のウエハ1をウエハ搬送装置70によって搬送し、所定の表面処理液を貯留した複数の処理槽に順次浸漬させてウエハ1の表面処理を行なう表面処理装置において、前記複数の処理槽のうちの所定の処理層における表面処理ごとに当該ウエハ1の枚数を計測するウエハ枚数検知手段9、12を設け、当該ウエハ枚数検知手段によりウエハ枚数の不足を検知したときに、警報を発し、または表面処理作業を停止するようにしたことを特徴とする。
請求項(抜粋):
ウエハ搬送手段によって複数枚のウエハを搬送し、所定の表面処理液を貯留した複数の処理槽に順次浸漬させて表面処理を行なう表面処理装置において、前記複数の処理槽のうちの所定の処理槽における表面処理ごとに当該ウエハの枚数を計測するウエハ枚数検知手段を設け、当該ウエハ枚数検知手段によりウエハ枚数の不足を検知したときに、警報を発し、および/または表面処理作業を停止するようにしたことを特徴とする表面処理装置。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  H01L 21/306
引用特許:
審査官引用 (10件)
  • 特開昭63-289828
  • 特開昭63-111637
  • 特開昭62-262439
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