特許

J-GLOBAL ID：200903036030252659

水処理装置及びこの水処理装置を組み込んだワイヤ放電加工機

発明者： 岸 祥介
出願人/特許権者： 岸 祥介
代理人 (1件)： 伊藤 毅
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-172749
公開番号（公開出願番号）：特開平9-001133
出願日： 1995年06月14日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：

【要約】【目的】 水を抗酸化力、抗菌力などを有するものに水質変換させる。【構成】 一端を水の流入口1aとし、他端を水の流出口1bとした所要の長さを有する筒体1内に遠赤外線放射セラミックスからなる粒状物2a及び二価三価鉄塩で表面処理したセラミックスからなる粒状物4aの充填層2A,4Aをそれぞれ設け、また該筒体1内に永久磁石3を配設し、筒体1の両端を通水性を有する蓋体5,5で封止させて構成される。

請求項（抜粋）：

一端を水の流入口とし、他端を水の流出口とした所要の長さを有する筒体内に遠赤外線放射セラミックスからなる粒状物及び二価三価鉄塩で表面処理したセラミックスからなる粒状物の充填層をそれぞれ設け、また該筒体内に永久磁石を配設し、筒体の両端を通水性を有する蓋体で封止したことを特徴とする水処理装置。

IPC (4件)：

C02F 1/28 ,  B23H 1/10 ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/48

FI (4件)：

C02F 1/28 E ,  B23H 1/10 Z ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/48 A