ジアレン誘導体及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小林純子 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-199580
公開番号（公開出願番号）：特開2003-012571
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】プロパルギル化合物を用いて、アセチレン類を副生成せずに、効率よくジアレン誘導体を得ること。【解決手段】金属化合物存在下、メタラシクロペンタン(2)と、プロパルギルハライド(3a)及び(3b)とを反応させ、ジアレン誘導体(1a)を得る。【化1】(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、A1及びA2は、それぞれ、同一又は異なって、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等を表す。Xはハロゲン原子、Mは遷移金属、L1及びL2は配位子を表す。)

請求項（抜粋）：

下記式(1a)で示されるジアレン誘導体。【化1】(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ、互いに独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していてもよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基、又は水酸基であり、ただし、R4及びR5は、互いに架橋してC4〜C20飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式-N(B)-で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C20炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよく、A1及びA2は、それぞれ、互いに独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していてもよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基、又は水酸基である。)

IPC (4件)：

C07C 13/11 , C07C 1/32 , C07C 11/14 , C07B 61/00 300

FI (4件)：

C07C 13/11 , C07C 1/32 , C07C 11/14 , C07B 61/00 300

Fターム (11件)：

4H006AA01 , 4H006AA02 , 4H006AC24 , 4H006BA05 , 4H006BA37 , 4H006BB23 , 4H006BC10 , 4H006BC31 , 4H006BC34 , 4H039CA29 , 4H039CD20

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開昭55-036422

引用文献：

審査官引用 (7件)

Tetrahedron, 1982, 38(6), p.853-862
日本化学会北海道支部2001年夏季研究発表会-講演要旨集, 200107, p.40
日本化学会第74春季年会-講演予稿集II, 1998, p.1050

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