特許

J-GLOBAL ID：200903036052416353

ラジカル重合性シリコーンの製造方法

発明者： 前田 佳治 ,  児島 史郎
出願人/特許権者： 東亞合成化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-323663
公開番号（公開出願番号）：特開平6-145357
出願日： 1992年11月09日
公開日（公表日）： 1994年05月24日
要約：

【要約】【目的】溶媒を含まないラジカル重合性シリコーンの容易でかつ高収率な製造方法の提供。【構成】平均径が40nm以上の細孔を有する粒状スルホン酸型カチオン交換樹脂を触媒として、反応溶媒の非存在下に、シラノール基を有するポリシロキサン1モル当たり、不飽和二重結合を有するアルコキシシラン化合物を0.8〜3モルの割合で縮合反応させることを特徴とするラジカル重合性シリコーンの製造方法。

請求項（抜粋）：

平均径が40nm以上の細孔を有する粒状スルホン酸型カチオン交換樹脂を触媒として、反応溶媒の非存在下に、下記化合物(A)1モル当り、下記化合物(B)を0.8〜3モルの割合で縮合反応させることを特徴とするラジカル重合性シリコーンの製造方法。化合物(A):化1で表される化合物【化1】(式中、nは10〜600の正数であり、またR1およびR2は、炭素数が1〜10のアルキル基又はフェニル基である)化合物(B):化2で表される化合物【化2】(式中、R3は水素原子又はメチル基であり、Rは炭素数が1〜10のアルキル基又はフェニル基であり、Xは炭素数1〜10のアルコキシ基又はハロゲン原子であり、またpは0又は1である)

IPC (3件)：

C08G 77/38 NUF ,  C08G 77/08 NUD ,  C08F299/08 MRY