特許

J-GLOBAL ID：200903036069531172

走査露光方法及び走査型露光装置

発明者： 金子 謙一郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-082314
公開番号（公開出願番号）：特開平10-256150
出願日： 1997年03月14日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：

【要約】【課題】 マスクの局所的な温度上昇に起因して感応基板上に投影されるパターン像にディストーションが発生するのを抑制する。【解決手段】 走査露光の際、マスクR上の照明領域IAには露光光ILが照射され、照明領域以外の領域には、照射光学系(14、15、16)からの光が照射される。この際、照明領域に照射される露光光のエネルギはセンサ11よって計測され、照射光学系によりマスク上に照射される光のエネルギはセンサ17によって計測される。そして、露光制御ユニット12、メインCPU13によってセンサ11、17の計測値に基づいて照射光学系が制御される。このため、マスク上の照明領域部分に局所的な温度上昇が生ずるのが抑制され、ウエハW上に投影されるパターン像のディストーションの発生が抑えられる。

請求項（抜粋）：

パターンが形成されたマスク上の所定の照明領域に露光光を照射し、前記マスクと感光基板とを投影光学系に対して所定の走査方向に相対移動させることにより、前記パターンの像を感光基板上に逐次露光転写する走査露光方法において、前記マスク上の前記照明領域以外の領域に、前記照明領域に照射される前記露光光のエネルギ量に応じた光を照射しつつ、前記露光を行なうことを特徴とする走査露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D