特許

J-GLOBAL ID：200903036078652047

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： 大池 太郎 ,  吉田 誠 ,  宮崎 哲夫 ,  鳴島 伸 ,  宮本 宏之
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
代理人 (1件)： 杉村 興作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-177134
公開番号（公開出願番号）：特開2002-367115
出願日： 2001年06月12日
公開日（公表日）： 2002年12月20日
要約：

【要約】【課題】 ロット間又は同一ウエハ内における各薄膜磁気ヘッド素子の切削量の変動を防止し、均一な幅の書き込み磁極部を有する均一な特性の薄膜磁気ヘッドを歩留まり良く得る方法を提供する。【解決手段】 薄膜磁気ヘッドを構成する書き込み磁極部を形成した後に、この書き込み磁極部の幅を好ましくは収束イオンビームでモニタリングする。そして、このモニタリング情報から前記書き込み磁極部幅の切削幅を決定し、この決定された切削幅分だけ前記書き込み磁極部幅をミリング処理し、前記書き込み磁極部幅を規定する。

請求項（抜粋）：

第1の磁性膜と、この第1の磁性膜上にギャップ膜を介して形成された第2の磁性膜とからなる書き込み磁極部を具えた薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記書き込み磁極部を形成した後に、前記書き込み磁極部の幅をモニタリングする工程と、前記モニタリングにより得た情報に基づいて前記書き込み磁極部の切削幅を決定し、前記書き込み磁極部に対してミリング処理を行うことにより、前記書き込み磁極部の幅を規定するようにしたことを特徴とする、薄膜磁気ヘッドの製造方法。

Fターム (4件)：

5D033BA13 ,  5D033CA10 ,  5D033DA08 ,  5D033DA31

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 磁気ヘッド及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-159391   出願人：株式会社日立製作所