特許
J-GLOBAL ID:200903036083851988

ポリオレフィン箔の製造方法及びその利用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-106858
公開番号(公開出願番号):特開2002-036347
出願日: 2001年04月05日
公開日(公表日): 2002年02月05日
要約:
【要約】【課題】 エンボス加工が可能でありまた積層が可能であり、優れたしぼ(grain)安定性を有し、さらに従来の方法で作られた箔と比較して明確に一層コスト効率的に製造できるポリオレフィン箔の製造方法を提供すること。【解決手段】 課題は、未架橋ポリオレフィン及び場合により添加剤を含む材料からエンボス加工箔を作り、得られた箔を電子ビームで処理するエンボス加工箔の製造方法であって、慣用方式で得られた箔を深絞りのために適当なしぼ安定性を達成するために電子ビームで処理し、約0.7ないし1.2g/cm3の密度を有するそのしぼ付き箔を深絞りすることを特徴とする方法によって解決される。
請求項(抜粋):
未架橋ポリオレフィン及び場合により添加剤を含む材料からエンボス加工箔を作り、得られた箔を電子ビームで処理するエンボス加工箔の製造方法であって、深絞りのために適当なしぼ安定性を達成するための慣用方式で得られた箔を電子ビームで処理し、約0.7ないし1.2g/cm3の密度を有するそのしぼ付き箔を深絞りすることを特徴とする上記エンボス加工箔の製造方法。
IPC (13件):
B29C 51/08 ,  B29C 59/00 ,  C08J 7/00 ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CES ,  C08K 5/103 ,  C08K 5/13 ,  C08K 5/151 ,  C08K 5/3435 ,  C08K 5/524 ,  C08L 23/02 ,  B29K 23:00 ,  B29L 7:00
FI (13件):
B29C 51/08 ,  B29C 59/00 Z ,  C08J 7/00 Z ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CES ,  C08K 5/103 ,  C08K 5/13 ,  C08K 5/151 ,  C08K 5/3435 ,  C08K 5/524 ,  C08L 23/02 ,  B29K 23:00 ,  B29L 7:00
Fターム (61件):
4F073AA05 ,  4F073AA06 ,  4F073AA07 ,  4F073BA06 ,  4F073BA07 ,  4F073BA08 ,  4F073BA09 ,  4F073BA43 ,  4F073BA44 ,  4F073BA48 ,  4F073BB01 ,  4F073BB05 ,  4F073CA42 ,  4F073FA03 ,  4F208AA03 ,  4F208AG01 ,  4F208AG03 ,  4F208AH26 ,  4F208MA06 ,  4F208MB01 ,  4F208MG01 ,  4F208MG04 ,  4F208MG11 ,  4F208MH17 ,  4F208MH24 ,  4F209AA03 ,  4F209AA04 ,  4F209AA07 ,  4F209AA11 ,  4F209AB03 ,  4F209AB06 ,  4F209AG01 ,  4F209AG03 ,  4F209AH26 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4J002BB031 ,  4J002BB041 ,  4J002BB051 ,  4J002BB071 ,  4J002BB081 ,  4J002BB091 ,  4J002BB121 ,  4J002BB141 ,  4J002BB171 ,  4J002DA046 ,  4J002EA046 ,  4J002EH046 ,  4J002EJ017 ,  4J002EL017 ,  4J002ER026 ,  4J002ES006 ,  4J002ES016 ,  4J002EU026 ,  4J002EU077 ,  4J002EU087 ,  4J002EU186 ,  4J002EU196 ,  4J002EW067 ,  4J002FD077 ,  4J002FD146
引用特許:
審査官引用 (6件)
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