クロムスパッタリングターゲット

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-199003
公開番号（公開出願番号）：特開平6-017246
出願日： 1992年07月03日
公開日（公表日）： 1994年01月25日
要約：

【要約】【構成】ターゲット表面に露出した、ターゲット中に存在する介在物の一つの部分の径が1μm以上で、それらの面積の合計が、スパッタリングの対象となるターゲットの表面積の0.1%以下であるクロムスパッタリングターゲット。【効果】このターゲットを用いてスパッタリングを行うとパーティクルの少ないスパッタリング表面が得られる。

請求項（抜粋）：

スパッタリングの対象となるターゲット表面において、ターゲット中に存在する介在物の表面に露出した一つの部分の径が少なくとも1μmで、それらの面積の合計が、前記ターゲット表面積の0.1%以下である事を特徴とするクロムスパッタリングターゲット。

IPC (2件)：

C23C 14/34 , C23C 14/14

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭62-240702
特開昭63-162863
特開昭62-240702

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