特許

J-GLOBAL ID：200903036115455583

CVDガス供給装置

発明者： 水越 克郎 ,  本郷 幹雄 ,  高田 敦仁 ,  河路 幹規 ,  山田 利夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 秋本 正実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-098687
公開番号（公開出願番号）：特開平7-310185
出願日： 1994年05月12日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：

【要約】【目的】 温度に対して不安定なCVDガス材料を、品質劣化させること無く安定して供給し得るCVDガス供給装置の提供。【構成】 固体または液状のCVDガス材料を収納する容器と、該容器内のCVDガス材料を設定温度に保つための恒温槽と、CVDガス材料を加熱してガス化する加熱手段とを備え、ガス化されたCVDガスを成膜処理を行う反応容器内に配管を介して供給するCVDガス供給装置において、前記恒温槽に前記容器内のCVDガス材料を冷却して低温保管する冷却手段を設ける。

請求項（抜粋）：

固体または液状のCVDガス材料を収納する容器と、該容器内のCVDガス材料を設定温度に保つための恒温槽と、CVDガス材料を加熱してガス化する加熱手段とを備え、ガス化されたCVDガスを成膜処理を行う反応容器内に配管を介して供給するCVDガス供給装置において、前記恒温槽に前記容器内のCVDガス材料を冷却して低温保管する冷却手段を設けたことを特徴とするCVDガス供給装置。

IPC (2件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/205