特許

J-GLOBAL ID：200903036117971171

マスク検査方法、マスク検査装置、露光方法、及び露光装置

発明者： 山本 一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (2件)： 渡部 温 ,  柳瀬 睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-326559
公開番号（公開出願番号）：特開2004-165250
出願日： 2002年11月11日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：

【課題】露光装置搭載後のマスクの歪みを正確に予想できるマスク検査方法等を提供する。【解決手段】検査装置81でレチクル10上のマーク53のXY及びZ座標データ(変形データ1)を検出する(S2)。露光装置内でレチクル10のアライメントマーク51(変形データ2)を検出する(S3,S4)。Z座標の変形データ1を基にレチクルの歪み形状のモデリング計算を行う(S5)。変形データ1及び2に基づき予想する露光装置に搭載時のレチクル歪み形状(位置座標データ)にZ座標の位置情報を反映させる(S6)。レチクルのサブフィールド内の線形歪み(歪みデータ)を抽出する(S7)。位置座標データと歪みデータからSF位置座標データを求め(S8)、これに基づき補正しつつ露光する(S9)。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

感応基板上に露光転写すべきデバイスパターンが形成されたマスクの変形を検査する方法であって、 前記パターン又は前記マスク上のマークの位置を測定する際に、前記パターンの形成されたパターン面内の平面座標(XY座標)における位置と共に、パターン面垂直方向(Z座標)における位置をも測定し、 測定した該Z座標における位置情報を前記XY座標における位置の測定データに反映させることを特徴とするマスク検査方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 ,  G01B21/00 ,  G03F7/207 ,  H01J37/305

FI (8件)：

H01L21/30 541U ,  G01B21/00 D ,  G03F7/207 H ,  H01J37/305 B ,  H01L21/30 502P ,  H01L21/30 541S ,  H01L21/30 541J ,  H01L21/30 541F

Fターム (18件)：

2F069AA03 ,  2F069BB40 ,  2F069GG01 ,  2F069GG07 ,  2F069JJ14 ,  2F069MM24 ,  5C034BB05 ,  5C034BB07 ,  5F056AA06 ,  5F056AA21 ,  5F056BA08 ,  5F056BA09 ,  5F056BA10 ,  5F056CB11 ,  5F056CB22 ,  5F056CB32 ,  5F056CC08 ,  5F056CC09