特許

J-GLOBAL ID：200903036124253926

マイクロ波プラズマ処理装置及びそれを用いたプラズマ処理方法並びに物品の製造方法

発明者： 鈴木 伸昌
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 西山 恵三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-388764
公開番号（公開出願番号）：特開2002-190475
出願日： 2000年12月21日
公開日（公表日）： 2002年07月05日
要約：

【要約】【課題】 組み立て時のずれ、プラズマ発生室内の圧力変化などによる変形や移動により、マイクロハ透過誘電体窓の冷却効果が悪くなる。【解決手段】 プラズマ発生室1と、被処理体2を支持するための支持手段3と、ガス供給手段5と、排気手段6と、プラズマ発生室内に誘電体窓7を透してマイクロ波を供給するマイクロ波供給器8と、を備えたプラズマ処理装置において、誘電体窓7を冷却する冷却部材20を、誘電体窓7側に押圧されるように、マイクロ波供給器8に付設する。

請求項（抜粋）：

プラズマ発生室と、被処理体を支持するための支持手段と、前記プラズマ発生室内へガスを供給するガス供給手段と、前記プラズマ発生室内へ誘電体窓を透してマイクロ波電力を供給するマイクロ波供給器と、を備えたプラズマ処理装置において、前記誘電体窓を冷却するための冷却部材が、前記誘電体窓側に押圧されるように、前記マイクロ波供給器に付設されていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

H01L 21/31 C ,  C23C 16/511 ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B

Fターム (51件)：

4K030AA06 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030BA40 ,  4K030BA44 ,  4K030CA04 ,  4K030CA07 ,  4K030FA01 ,  4K030KA26 ,  4K030KA37 ,  4K030KA46 ,  4K030LA01 ,  4K030LA02 ,  4K030LA15 ,  5F004AA14 ,  5F004BA20 ,  5F004BB32 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA02 ,  5F004DA03 ,  5F004DA04 ,  5F004DA05 ,  5F004DA15 ,  5F004DA18 ,  5F004DA24 ,  5F004DA26 ,  5F004DA27 ,  5F004DB02 ,  5F004DB03 ,  5F004DB26 ,  5F004EB03 ,  5F045AA09 ,  5F045AB03 ,  5F045AB04 ,  5F045AB06 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AC01 ,  5F045AC02 ,  5F045AC05 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AC12 ,  5F045DP04 ,  5F045EH03 ,  5F045EJ04 ,  5F045EJ05