特許

J-GLOBAL ID：200903036125739199

ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 佐藤 幹夫
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-180792
公開番号（公開出願番号）：特開2001-358058
出願日： 2000年06月16日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：

【要約】【課題】 ばね部材を用いた自重補償ステージの安定性を向上させる。【解決手段】 微動ステージ1と粗動ステージ2の間には、少なくとも3個のばね部材3a〜3cからなる自重補償手段と、微動ステージ1をZ並進微駆動するリニアモータ4a〜4cが設けられる。微動ステージ1の重心点Gは、バーミラー10等のためにステージ中心Oからずれた位置にあり、ばね部材3a〜3cによって静的つりあい状態にもどるときに回転モーメントが発生し、ステージのかじり、損傷等を引き起こす。これを防ぐために、3個のばね部材3a〜3cのそれぞれのばね定数を、重心点Gに対する各ばね部材3a〜3cの相対位置に基づいて設定し、前記回転モーメントの発生を防ぐ。

請求項（抜粋）：

保持面を有する微動ステージと、該微動ステージの自重および姿勢またはそのうちの一方を補償する少なくとも3個のばね部材を備えた自重補償手段と、前記微動ステージを鉛直方向に駆動するアクチュエータを有し、前記3個のばね部材のそれぞれのばね定数が、静的なつりあい状態にあるときの前記微動ステージの重心に対する各ばね部材の相対位置に基づいて設定されていることを特徴とするステージ装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  G12B 5/00 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  G12B 5/00 T ,  H01L 21/68 K ,  H01L 21/30 503 A

Fターム (25件)：

2F078CA02 ,  2F078CA08 ,  2F078CB02 ,  2F078CB05 ,  2F078CB09 ,  2F078CB10 ,  2F078CB12 ,  2F078CB16 ,  2F078CC11 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031HA53 ,  5F031JA03 ,  5F031KA06 ,  5F031KA10 ,  5F031KA15 ,  5F031LA08 ,  5F031LA15 ,  5F031MA27 ,  5F031PA18 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046DA05 ,  5F046DB05