特許
J-GLOBAL ID:200903036128914307

光触媒反応槽

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内山 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-180981
公開番号(公開出願番号):特開平8-024629
出願日: 1994年07月08日
公開日(公表日): 1996年01月30日
要約:
【要約】【構成】光触媒と、光触媒を励起するための紫外線を照射しうる人工光源とを組み合わせた光触媒反応装置において、人工光源に近接して第一反応帯域を設け、さらに光透過性隔壁を介してこの第一反応帯域に隣接し、かつ人工光源の反対側に、光触媒が充填された第二反応帯域を設けたことを特徴とする光触媒反応槽。【効果】本発明の光触媒反応槽によれば、光分解反応と光触媒分解反応とを同一の反応槽で、しかも別々の場所で行わせることにより、高価な光エネルギーを効率よく利用することができ、ランニングコストの低減を図ることができる。この光触媒反応槽は、例えば、廃水や廃ガス中の有機物の分解などに好適に用いることができる。
請求項(抜粋):
光触媒と、光触媒を励起するための紫外線を照射しうる人工光源とを組み合わせた光触媒反応装置において、人工光源に近接して第一反応帯域を設け、さらに光透過性隔壁を介してこの第一反応帯域に隣接し、かつ人工光源の反対側に、光触媒が充填された第二反応帯域を設けたことを特徴とする光触媒反応槽。
IPC (6件):
B01J 19/12 ,  B01D 53/87 ZAB ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 ZAB ,  C02F 1/78 ZAB ,  B01J 21/06

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