特許
J-GLOBAL ID：200903036131323921
エキシマレーザー用光量調整フィルター、その使用方法及びそれを用いた光学装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-250066
公開番号（公開出願番号）：特開平10-096814
出願日： 1996年09月20日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：
【要約】【課題】 簡単な構成で、エキシマレーザーを透過し、レーザ耐久性が高い、光量調整部材を提供する。【解決手段】 基板の一方の面上に形成された高屈折率層及び低屈折率層の交互層からなる高反射誘電体多層膜と、他方の面上に形成された反射防止膜とを有するエキシマレーザー用光量調整フィルター。
請求項（抜粋）：
基板の一方の面上に形成された高屈折率層及び低屈折率層の交互層からなる高反射誘電体多層膜と、他方の面上に形成された反射防止膜とを有するエキシマレーザー用光量調整フィルター。
IPC (5件)：
G02B 5/28
, G02B 1/11
, G02B 5/00
, G02B 5/26
, H01S 3/10
G02B 5/28
, G02B 5/00 A
, G02B 5/26
, H01S 3/10 Z
, G02B 1/10 A
