特許
J-GLOBAL ID：200903036134634120
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-328907
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166703
出願日： 1991年12月12日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】 ウェハ上のショットを順次露光するときの焦点拡大効果を各ショット毎に均一化する。【構成】 1回の露光動作中にZステージを移動させる焦点拡大法を使い、各ショットへの露光動作(実露光時間)とZステージの移動特性との連動関係をチェックし、連動誤差があるときは、次ショット露光の前に連動関係を規定するパラメータを修正する。
請求項（抜粋）：
マスクのパターンを感光基板上の所定領域に結像投影するための投影光学系と、前記感光基板を保持して前記投影光学系の光軸とほぼ垂直な面内で2次元移動させて、前記感光基板上の互いに異なる所定領域の夫々を順次露光するための2次元ステージと、前記投影光学系の結像面と前記感光基板との前記光軸方向に関する相対間隔を連続的に変更する間隔変更手段と、前記所定領域に対して適正露光量を与える露光動作と連動して前記間隔変更手段を動作させる制御手段とを備えた投影露光装置において、前記感光基板上の先行して露光される所定領域を、予め設定された動作条件で露光したとき、前記間隔変更手段の動作と前記露光動作との連動関係の状態を検知する状態検知手段;該検知された状態が不適正なときは、前記先行する所定領域の後に露光される所定領域に対して、前記制御手段の動作条件を規定したパラメータ、もしくは露光動作の条件を規定したパラメータを修正する修正手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, G02B 27/40
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
, G03F 7/207
