特許
J-GLOBAL ID：200903036144150740
磁気記録媒体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-214676
公開番号（公開出願番号）：特開平9-063043
出願日： 1995年08月23日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：
【要約】【課題】 良好な表面性を有し、電磁変換特性に優れるとともに、低コスト化が可能な磁気記録媒体を得ることを目的とする。【解決手段】 中心線平均粗さRaが5〜20nm、十点平均粗さRzが30〜450nm、最大高さRmaxが30〜450nmである非磁性支持体1上に、強磁性粉末と結合剤とを主体とする磁性塗布層2を形成し、この磁性塗布層2上に真空薄膜成膜手段によって磁性薄膜3を形成する。
請求項（抜粋）：
中心線平均粗さRaが5〜20nm、十点平均粗さRzが30〜450nm、最大高さRmaxが30〜450nmである非磁性支持体上に、強磁性粉末と結合剤とを主体とする磁性塗布層が形成され、この磁性塗布層上に真空薄膜成膜手段により成膜された磁性薄膜が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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