特許
J-GLOBAL ID:200903036159715612

真空積層装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-339862
公開番号(公開出願番号):特開2002-144429
出願日: 2000年11月08日
公開日(公表日): 2002年05月21日
要約:
【要約】【課題】 真空積層装置は、空圧源より低い圧力の設定により膜体を加圧して積層成形する場合、増圧弁を通過することにより空圧の流量が減少してしまい、膜体を加圧する設定圧力までの昇圧に時間がかかってしまう問題を課題とする。【解決手段】 圧力調整弁の設定圧力が空圧源の圧力より低い場合には空圧源と増圧弁との間の一次側通路を閉鎖し、また、圧力調整弁の設定圧力が空圧源の圧力より高い場合には一次側通路を開放する開閉弁と、一次側通路の空圧源と開閉弁との通路より分岐して増圧弁と圧力調整弁との間の二次側通路に合流する増圧弁の回避通路とを設けた。そして、圧力調整弁の設定圧力と空圧源の圧力とを比較して演算をおこない開閉弁への信号を出力する制御装置とを設けるようにしたのである。
請求項(抜粋):
相対向して近接遠退可能に設けられた上板および下板と、上板および下板の対向面の一方に設けられた可撓性を有する膜体と、上板および下板の少なくとも他方に設けられた積層材を加熱するための加熱手段と、上板および下板の対向面の間で挟持されることによって積層成形空間を形成する枠体と、積層成形空間内を減圧する減圧手段と、膜体を上板および下板のいずれか一方の対向面に密接させるとともに、上板または下板のいずれか一方の対向面から離間させて、積層材と被積層材を上板または下板のいずれか他方の対向面との間で加圧させる増圧弁と圧力調整弁を含む密着加圧手段とを設けて積層成形をおこなう真空積層装置において、前記圧力調整弁の設定圧力が空圧源の圧力より低い場合には空圧源と増圧弁との間の一次側通路を閉鎖し、また、圧力調整弁の設定圧力が空圧源の圧力より高い場合には一次側通路を開放する開閉弁と、一次側通路の空圧源と開閉弁との通路より分岐して増圧弁と圧力調整弁との間の二次側通路に合流する増圧弁の回避通路とを設けたことを特徴とする真空積層装置。
IPC (2件):
B29C 65/02 ,  B29L 9:00
FI (2件):
B29C 65/02 ,  B29L 9:00
Fターム (7件):
4F211AG03 ,  4F211AR02 ,  4F211TA13 ,  4F211TC02 ,  4F211TD11 ,  4F211TN07 ,  4F211TQ08
引用特許:
審査官引用 (4件)
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