特許
J-GLOBAL ID:200903036160631015
研磨布および研磨方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-040212
公開番号(公開出願番号):特開平8-229805
出願日: 1995年02月28日
公開日(公表日): 1996年09月10日
要約:
【要約】【目的】研磨布および研磨方法において、目ずまりによるスクラッチを起すことなく研磨剤を有効に利用できるとともにより精度の高い平坦面が得られるようにする。【構成】研磨布1の中央帯にウェハ5を高い研磨レートで研磨し得る緻密な多数の穴3を、外側と内側に研磨剤が通る溝2を設け、研磨布1を回転させるとともにウェハ5を自転させかつ半径方向に揺動させることによって、研磨布の中央部に滴下される研磨剤が研磨布の内側から外側に円滑に移送され、中央帯の研磨部で研磨された削り屑が研磨布の外側に留まることなく排出される。
請求項(抜粋):
円盤状の回転定盤に被着されるとともに研磨剤が供給されながら被研磨物を研磨する研磨布において、研磨布の内側部分と外周部分の表面に前記研磨剤が流通する溝が形成されるとともに該溝が形成される表面以外は前記研磨剤が停留する複数の穴が形成されていることを特徴とする研磨布
IPC (2件):
B24B 37/00
, H01L 21/304 321
FI (2件):
B24B 37/00 C
, H01L 21/304 321 Z
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