特許

J-GLOBAL ID：200903036164065073

ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の製造方法

発明者： 額田 克己 ,  大門 克己 ,  飯島 正和 ,  坂口 泰生
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 渡部 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-248934
公開番号（公開出願番号）：特開平6-073304
出願日： 1992年08月26日
公開日（公表日）： 1994年03月15日
要約：

【要約】【目的】 帯電性および暗減衰率にばらつきがなく、安定した電子写真特性を示すヒドロキシガリウムフタロシアニンを製造する方法を提供する。【構成】 トリハロゲン化ガリウムと、フタロニトリルまたはジイミノイソインドリンとをハロゲン化芳香族炭化水素中で反応させ、得られたクロロガリウムフタロシアニンをアミド系溶剤で処理した後、加水分解して、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を製造する。

請求項（抜粋）：

トリハロゲン化ガリウムと、フタロニトリルまたはジイミノイソインドリンとを芳香族炭化水素溶剤中で反応させ、得られたクロロガリウムフタロシアニンを加水分解することを特徴とするヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の製造方法。