特許

J-GLOBAL ID：200903036166491878

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

発明者： 芳田 伸雄 ,  岡田 智弘 ,  丸山 洋治 ,  山本 久乃 ,  府山 盛明
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-153707
公開番号（公開出願番号）：特開平10-003613
出願日： 1996年06月14日
公開日（公表日）： 1998年01月06日
要約：

【要約】【課題】狭トラック幅および高アスペクト磁気コアを高精度に形成し、高記録密度に対応可能な薄膜磁気ヘッドを提供する。【解決手段】薄膜磁気ヘッドの媒体対向面における上部磁気コア14が、磁気ギャップ3側幅Wが1.5μm以下,厚さtが2.0μm以上,アスペクト比が1.0 以上である。上部磁気コア14の形成にフレームめっき法を用い、めっき法に用いられるフレームは複数層の多層膜を形成し、多層膜の最上層であるレジスト膜をフォトリソグラフィでパターン形成し、リアクティブイオンエッチングを一回もしくは複数回行ってパターンを下層に転写し、フレームを用いて上部磁気コア14を形成する。

請求項（抜粋）：

導体コイル,前記導体コイルの絶縁膜,磁気ギャップ膜,上部磁気コア及び下部磁気コアを含む薄膜磁気ヘッドにおいて、前記薄膜磁気ヘッドの媒体対向面における前記上部磁気コアが、前記磁気ギャップ膜側幅Wが1.5μm以下,厚さtが2.0μm以上,アスペクト比が1.0以上となることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

FI (2件)：

G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 D