特許
J-GLOBAL ID:200903036172011020

高周波加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-148608
公開番号(公開出願番号):特開2002-343550
出願日: 2001年05月18日
公開日(公表日): 2002年11月29日
要約:
【要約】【課題】 加熱したくない箇所を加熱されにくくし、また過加熱を防止することができる高周波加熱装置を提供する。【解決手段】 筒状に巻装形成された高周波コイル2の内部空間に被加熱物3を挿入して加熱する高周波加熱装置において、被加熱物3の加熱したくない箇所や過加熱を防止する箇所3aの外周面に対応する位置に、高周波による磁束φ1と逆向きの磁束φ2を発生させる渦電流が流れるように巻装した非鉄金属からなるリング4をそなえる。
請求項(抜粋):
筒状に巻装形成された高周波コイルの内部空間に被加熱物を挿入して加熱する高周波加熱装置において、前記被加熱物の加熱したくない箇所や過加熱を防止する箇所の外周面に対応する位置に、高周波による磁束と逆向きの磁束を発生させる渦電流が流れるように巻装した非鉄金属からなるリングをそなえたことを特徴とする高周波加熱装置。
IPC (2件):
H05B 6/40 ,  C21D 1/42
FI (2件):
H05B 6/40 ,  C21D 1/42 B
Fターム (5件):
3K059AA08 ,  3K059AB24 ,  3K059AB28 ,  3K059AD01 ,  3K059CD80

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