特許
J-GLOBAL ID：200903036199243691
防汚性反射防止積層体およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-298900
公開番号（公開出願番号）：特開平11-129382
出願日： 1997年10月30日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：
【要約】【課題】低い反射率を保持しつつ、防汚性に優れ、かつ延展性と密着性に優れた防汚性反射防止積層体と安価にかつ簡便に製造することのできる防汚性反射防止積層体の製造方法の提供にある。【解決手段】透明基材10の表面に単層もしくは多層の無機物からなる反射防止膜20を設け、その上に最外層となるケイ素酸化物層30を設けてなる防汚性反射防止積層体1において、前記ケイ素酸化物層30の組成が、炭素、水素、ケイ素および酸素のなかの一種もしくは2種以上の元素からなる化合物であって、少なくともその1種を化合物を含有し、前記化合物の含有量が、表面から透明基材10方向に向かって減少してなる防汚性反射防止積層体1としたものである。また、防汚性反射防止積層体の最外層であるケイ素酸化物層30を、CVD法によって形成してなる防汚性反射防止積層体の製造方法としたものである。
請求項（抜粋）：
透明基材の表面に単層もしくは多層の無機物からなる反射防止膜を設け、その上に最外層となるケイ素酸化物層を設けてなる防汚性反射防止積層体であって、該ケイ素酸化物層の組成が最表面から透明基材方向へ向かって連続的に変化することを特徴とする防汚性反射防止積層体。
IPC (6件)：
B32B 9/00
, B32B 7/02 103
, C23C 16/40
, G02B 1/11
, G02B 1/10
, C08J 7/06
B32B 9/00 A
, B32B 7/02 103
, C23C 16/40
, C08J 7/06 Z
, G02B 1/10 A
, G02B 1/10 Z
