特許
J-GLOBAL ID：200903036208272721
ハーフトーン型位相シフトマスク及びハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-181748
公開番号（公開出願番号）：特開平11-015136
出願日： 1997年06月23日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：
【要約】【課題】 任意の露光波長に対応するハーフトーン型位相シフター膜を成膜した後に、ハーフトーン位相シフター膜に要求される位相シフト角等の基本的特性を損ねることなく、特定波長における透過率を微小なオーダーから数十%の範囲において良好な制御性の下に改善できるハーフトーン型位相シフトマスク及びハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法等を提供する。【解決手段】 成膜後のハーフトーン位相シフター膜2の表面を、酸素若しくは窒素又は酸素及び窒素を含むガスをプラズマ励起してグロー放電部3の外側のアフターグロー部4に生じせしめた導入ガスの活性種と接触させることによって、その表層部のみを酸化若しくは窒化又は酸窒化して、ハーフトーン位相シフター膜における露光光の透過率及び反射率を改善する。
請求項（抜粋）：
露光光に対して実質的に透明である光透過部と、露光光の光強度を実質的に露光に寄与しない程度にまで減衰させる遮光機能と露光光の位相を所定量シフトさせる位相シフト機能との二つの機能を兼備するハーフトーン位相シフター部とを有し、前記ハーフトーン位相シフター部で遮光パターンを構成するとともに、前記光透過部とハーフトーン位相シフター部との境界部近傍にて各々を透過した露光光が互いに打ち消しあうような光学設計を施すことにより、被露光体表面に転写される露光パターン境界部のコントラストを良好に保持、改善できるようにしたハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法において、前記ハーフトーン位相シフター部の表面を、酸素若しくは窒素又は酸素及び窒素を含むガスをプラズマ励起してそのアフターグロー部に生じせしめた導入ガスの活性種と接触させることによって、前記ハーフトーン位相シフター部の表層部のみを酸化若しくは窒化又は酸窒化して、ハーフトーン位相シフター部における露光光の透過率及び反射率を改善することを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
