特許

J-GLOBAL ID：200903036225960828

シリコン鋳造装置およびシリコン鋳造方法

発明者： 山谷 宗義
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-097712
公開番号（公開出願番号）：特開2002-292455
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月08日
要約：

【要約】【課題】 溶解るつぼからの本出湯前の湯漏れ分が鋳型内に出湯されてシリコン鋳塊底部に急速凝固部が形成されるという問題があった。【解決手段】 シリコン原料を溶解して底部の出湯口から出湯する溶解るつぼと、この溶解るつぼの下部にシリコン原料を凝固させる鋳型とを設けたシリコン鋳造装置であって、上記溶解るつぼの出湯口と上記鋳型との間に、水平移動が可能な受け皿を設けた。

請求項（抜粋）：

シリコン原料を溶解して底部の出湯口から出湯する溶解るつぼと、この溶解るつぼの下部にシリコン原料を凝固させる鋳型とを設けたシリコン鋳造装置において、前記溶解るつぼの出湯口と前記鋳型との間に、水平移動が可能な受け皿を設けたことを特徴とするシリコン鋳造装置。

IPC (4件)：

B22D 21/00 ,  B22D 7/12 ,  B22D 41/08 ,  B22D 41/14

FI (5件)：

B22D 21/00 A ,  B22D 7/12 A ,  B22D 7/12 C ,  B22D 41/08 ,  B22D 41/14