特許
J-GLOBAL ID:200903036236820920
イオンビーム中の空間電荷を中性化するための方法と装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-502518
公開番号(公開出願番号):特表2001-509636
出願日: 1998年07月10日
公開日(公表日): 2001年07月24日
要約:
【要約】イオン注入装置における空間電荷効果は、イオンビーム中の特定極性のイオンの相互反発によって生じ、ビームを「ブローアップ」させ、制御不能にする。これは、例えばイオン注入装置においてイオンビーム路に沿って、特に外部電界領域で発生する。
請求項(抜粋):
第一極性イオンを含むイオンビーム中の空間電荷を中性化する方法であって、 第二極性イオンを生成するステップと、前記イオンビーム中の空間電荷を中性化するため前記第二極性イオンを導入するステップと、を有する方法。
IPC (5件):
H01J 27/02
, H01J 37/08
, H01J 37/317
, H01L 21/265 603
, C23C 14/48
FI (5件):
H01J 27/02
, H01J 37/08
, H01J 37/317 Z
, H01L 21/265 603 A
, C23C 14/48 Z
Fターム (10件):
4K029AA06
, 4K029BD01
, 4K029CA10
, 4K029DE00
, 5C030DD10
, 5C030DE10
, 5C030DG01
, 5C030DG03
, 5C030DG09
, 5C034CC13
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開昭52-147074
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粒子線照射装置の帯電抑制装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-202782
出願人:株式会社日立製作所
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特開昭52-147074
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