特許
J-GLOBAL ID：200903036250814372
シリコンヒータ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-243624
公開番号（公開出願番号）：特開2002-057141
出願日： 2000年08月11日
公開日（公表日）： 2002年02月22日
要約：
【要約】【課題】 半導体デバイスの製造工程において、コンタミネーションの発生を抑え、ウェーハの温度制御が可能なシリコンヒータを提供し、半導体製造の歩留りの向上を図る。【解決手段】 シリコンヒータであって、少なくともシリコン板の一方の面は溝加工によりヒータパターンを形成した発熱部であり、他方の面は溝加工を施さないヒータ面内の温度を均一化するための均熱部で、これに通電するための給電部を設けたものであることを特徴とするシリコンヒータ。
請求項（抜粋）：
シリコンヒータであって、少なくともシリコン板の一方の面は溝加工によりヒータパターンを形成した発熱部であり、他方の面は溝加工を施さないヒータ面内の温度を均一化するための均熱部で、これに通電するための給電部を設けたものであることを特徴とするシリコンヒータ。
Fターム (4件)：
5F004AA13
, 5F004AA16
, 5F004BB26
, 5F004BB29
