特許
J-GLOBAL ID:200903036255582372
2つの次元でイオンビーム角を測定する方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
龍華 明裕
, 飯山 和俊
, 明石 英也
, 東山 忠義
, 林 茂則
, 高田 学
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-551347
公開番号(公開出願番号):特表2009-524195
出願日: 2007年01月17日
公開日(公表日): 2009年06月25日
要約:
イオンビームの角度測定システムは、第1の形状及び第2の形状を画成し、第2の形状は、第1の形状から可変の間隔を有するフラグと、フラグがイオンビームの少なくとも一部を遮断するようフラグを並進路に沿って並進させるメカニズムと、並進路に沿っての複数の異なるフラグ位置に対してイオンビームを検出し、検出されたイオンビームに応じてセンサ信号を生成するセンスデバイスとを含む。センサ信号及びフラグの対応する複数の位置は、垂直面におけるイオンビームの垂直ビーム角を表す。センスデバイスは、マスクと、マスクを並進させて関連するファラデーセンサの一部の上にビーム電流センサを画成するメカニズムとを含む。【選択図】 図14
請求項(抜粋):
第1の形状及び第2の形状を画成し、前記第2の形状は、前記第2の形状上の位置に応じて前記第1の形状から可変の間隔を有するフラグと、
前記フラグがイオンビームの少なくとも一部を遮断するよう前記フラグを並進路に沿って並進させるメカニズムと、
前記並進路に沿っての複数の異なるフラグ位置に対して前記イオンビームを検出し、検出された前記イオンビームに応じてセンサ信号を生成するセンスデバイスと、
を含み、
前記センサ信号及び前記フラグの対応する複数の位置は、垂直面における前記イオンビームの垂直ビーム角を表す、角度測定システム。
IPC (2件):
H01J 37/317
, H01L 21/265
FI (3件):
H01J37/317 C
, H01L21/265 T
, H01L21/265 V
Fターム (2件):
引用特許:
出願人引用 (1件)
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ビーム角度の測定方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2008-504400
出願人:アクセリステクノロジーズインコーポレーテッド
審査官引用 (1件)
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ビーム角度の測定方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2008-504400
出願人:アクセリステクノロジーズインコーポレーテッド
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