特許
J-GLOBAL ID：200903036256772469
ジメチルスルホキシドの精製方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-048928
公開番号（公開出願番号）：特開平11-228530
出願日： 1998年02月13日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：
【要約】【課題】 電子工業用洗浄剤として使用可能なまでに金属成分を除去することができるジメチルスルホキシドの精製方法を提供すること。【解決手段】 ジメチルスルホキシドを、結晶性層状リン酸塩(例えば、トリポリリン酸二水素アルミニウムI型等)及び強酸性カチオン交換樹脂と接触せしめてジメチルスルホキシドに含まれるナトリウム、鉄等の金属成分を除去する。
請求項（抜粋）：
ジメチルスルホキシドを、結晶性層状リン酸塩及び強酸性カチオン交換樹脂と接触せしめてジメチルスルホキシドに含まれる金属成分を除去することを特徴とするジメチルスルホキシドの精製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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