特許
J-GLOBAL ID:200903036268096787
ICP分析装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
坂上 正明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-147269
公開番号(公開出願番号):特開2001-330590
出願日: 2000年05月19日
公開日(公表日): 2001年11月30日
要約:
【要約】【課題】 ICP分析装置において、試料溶液のプラズマへの導入効率を上げ、かつ溶媒成分がプラズマトーチに到達する割合を抑えてより高感度で安定した分析を可能にするスプレーチャンバーの提供する。【解決手段】 試料溶液中の微量不純物を分析する目的で前記試料溶液を噴霧するネブライザーと、噴霧した霧をプラズマに導入するプラズマトーチと、前記ネブライザーと前記プラズマトーチの間にあって前記霧の粒径を分別するスプレーチャンバーを備えたICP分析装置において、前記スプレーチャンバーが筒状の構造をしており中心部にヒーターを備え外周部は冷却し、前記霧は前記ヒータと前記外周部の間を通した事を特徴とする。
請求項(抜粋):
試料溶液中の微量不純物を分析する目的で前記試料溶液を噴霧するネブライザーと、前記噴霧した霧をプラズマに導入するプラズマトーチと、前記ネブライザーと前記プラズマトーチの間にあって、前記ネブライザーにより噴霧される霧から細径の粒からなる霧を分別して前記プラズマトーチに導出するスプレーチャンバーを備えたICP分析装置において、前記スプレーチャンバー中心部に加熱部と、前記スプレーチャンバー外周部に冷却部を設け、前記霧は前記加熱部と前記冷却部の間を通した事を特徴とするICP分析装置
IPC (4件):
G01N 27/62
, G01N 1/28
, H05H 1/30
, G01N 21/73
FI (5件):
G01N 27/62 F
, H05H 1/30
, G01N 21/73
, G01N 1/28 K
, G01N 1/28 T
Fターム (5件):
2G043DA05
, 2G043EA08
, 2G043GA19
, 2G043GB07
, 2G043NA01
引用特許:
出願人引用 (4件)
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特開平3-147241
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スプレ-チヤンバ-
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-249969
出願人:横河電機株式会社
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高周波誘導結合プラズマ分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-022015
出願人:日本電子株式会社
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特開平2-064449
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審査官引用 (4件)