特許
J-GLOBAL ID：200903036272736030
ニッケル無電解めっき装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-034760
公開番号（公開出願番号）：特開平10-226888
出願日： 1997年02月19日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：
【要約】【課題】 ガラス盤を水平方向に支持する方式において、めっき液と還元剤をよく混じり合わせることができ、かつ、酸素リッチな雰囲気にならず、最低限に必要な量の液ですむニッケル無電解めっき装置を提供する。【解決手段】 光ディスクの金属原盤を作製するために、ガラス盤上に記録信号に応じて凹凸のパターンが形成されたガラス盤1の上に無電解めっきを施す装置であって、上記ガラス盤表面を触媒で活性化する前処理工程を施した後、ニッケル金属イオンを含むめっき液と還元剤を別々の気体噴霧ノズル6,7,70,71で霧状にして上記ガラス盤上に塗布するようにしている。
請求項（抜粋）：
光ディスクの金属原盤を作製するために、ガラス盤上に記録信号に応じて凹凸のパターンが形成されたガラス盤(1)の上に無電解めっきを施す装置であって、上記ガラス盤表面を触媒で活性化する前処理工程を施した後、ニッケル金属イオンを含むめっき液と還元剤を別々の気体噴霧ノズル(7,6,70,71)で霧状にして上記ガラス盤上に塗布することを特徴とするニッケル無電解めっき装置。
IPC (2件)：
C23C 18/36
, G11B 7/26 501
C23C 18/36
, G11B 7/26 501
