非破壊試験における信号対雑音比を増加する方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-587146
公開番号（公開出願番号）：特表2002-531854
出願日： 1999年12月01日
公開日（公表日）： 2002年09月24日
要約：

【要約】【課題】シアリング干渉計を使用する光シアログラフィで使用するのに適した位相段階式光検査システムによるサンプルの非破壊試験における信号対雑音比を増加する方法を提供すること。【解決手段】シアリング干渉計を使用する光シアリングシステムのような位相の段階式光検査システムによるサンプルの非破壊試験または評価の信号対雑音比を、位相で連続的に段階を付けた相関しているスペックル画像を生成することにより高めた手段。

請求項（抜粋）：

位相段階式光検査システムによってサンプルの非破壊試験または評価の信号対雑音比を増加する方法であって、試験されるかまたは評価されるサンプルについて、位相で連続的に段階を付けた相関しているスペックル画像が定常的な応力を加えられていない状態でコヒーレント光で該サンプルを照明することによって生成されて、捕捉され、該サンプルがコヒーレント光で照明され、所定の応力のインクリメントで歩進的に応力を加えられ、所定の応力のインクリメントで歩進的に応力を加えられたサンプルは、位相で連続的に段階を付けた相関しているスペックル画像が生成されて、捕捉され、応力を加えられていないサンプルの位相の段階的なスペックル画像および歩進的に応力を加えられたサンプルの位相段階を付けたスペックル画像が使用されて、応力を加える前および後に位相を計算し、差を計算してインクリメントする位相の変化を導き出し、各インクリメントする位相変化の大きさおよび符号が検査され、連続する測度の位相差がπよりも大きく増加するときは、測度から2πを減算するか、連続する測度間の位相差がπよりも大きく減少するとき、2πが測度に加算され、各スペックル画像内の各点の位相が、各変調の平方によって重み付けされている画像内での最も近くで隣り合う位相差の和をとることによってより正確に計算され、変調が位相変化に関係する強度変化の測度であり、計算結果が変調の和によって除算することによって正規化されている方法。

IPC (2件)：

G01B 9/02 , G01B 11/16

FI (2件)：

G01B 9/02 , G01B 11/16 G

Fターム (31件)：

2F064AA11 , 2F064CC02 , 2F064DD08 , 2F064EE08 , 2F064FF01 , 2F064GG22 , 2F064GG53 , 2F064HH03 , 2F064HH05 , 2F064HH08 , 2F064JJ06 , 2F065AA07 , 2F065AA65 , 2F065BB05 , 2F065DD09 , 2F065FF53 , 2F065GG04 , 2F065HH04 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065LL62 , 2F065MM16 , 2F065NN05 , 2F065QQ14 , 2F065QQ23 , 2F065QQ25 , 2F065RR07 , 2F065UU05 , 2F065UU07

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