特許
J-GLOBAL ID:200903036280569348

エステル置換基を有する気体分離膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 成瀬 勝夫 (外2名) ,  成瀬 勝夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-143061
公開番号(公開出願番号):特開平8-332362
出願日: 1995年06月09日
公開日(公表日): 1996年12月17日
要約:
【要約】【目的】 高い二酸化炭素分離係数と高い二酸化炭素透過係数とを有して優れた二酸化炭素の分離性能を有し、より低いエネルギーコストで窒素等の分離対象ガスから二酸化炭素を分離し回収あるいは除去することができる気体分離膜を提供する。【構成】 繰り返し単位の少なくとも5モル%以上が下記一般式(1)【化1】で表される嵩高い構造部分を有し、かつ、繰り返し単位の10モル%以上が置換基として炭素数4以下のアルキルのカルボン酸エステル基及び/又はスルホン酸エステル基を有する高分子材料を用いる、エステル置換基を有する気体分離膜である。【効果】 本発明のエステル置換基を有する気体分離膜は、優れた二酸化炭素の分離性能を有してより低いエネルギーコストで窒素等の分離対象ガスから二酸化炭素を分離し回収あるいは除去することができるので、火力発電所、製鉄所高炉等の二酸化炭素固定発生源からの二酸化炭素の分離回収や、天然ガスからの二酸化炭素の除去等の用途に好適である。
請求項(抜粋):
繰り返し単位の少なくとも5モル%以上が下記一般式(1)【化1】(但し、式中R1 、R2 、R3 及びR4 は水素原子、アルキル基又はハロゲン基の何れかを示し、互いに同じであってもまた異なっていてもよく、また、R5 及びR6 は水素原子、スルホン酸基、カルボキシル基、炭素数4以下のアルキルのカルボン酸エステル基又は炭素数4以下のアルキルのスルホン酸エステル基の何れかを示し、互いに同じであってもまた異なっていてもよい)で表される嵩高い構造部分を有し、かつ、繰り返し単位の10モル%以上が置換基として炭素数4以下のアルキルのカルボン酸エステル基及び/又はスルホン酸エステル基を有する高分子材料を用いることを特徴とするエステル置換基を有する気体分離膜。
IPC (3件):
B01D 71/64 ,  B01D 71/68 ,  B01D 71/82
FI (3件):
B01D 71/64 ,  B01D 71/68 ,  B01D 71/82

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