特許
J-GLOBAL ID：200903036280824704
磁場発生方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田 幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-337893
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201560
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：
【要約】【目的】 超電導バルクを使用した強力な磁場発生装置を提供する。【構成】 導線,アルミニウム線または超電導線からなる電磁石においてその発生磁場の磁気回路上に設置され電磁石により初期着磁された超電導バルクと超電導バルク及び磁場印加対象物に磁場が集中するように強磁性体のフレームで磁気回路を構成した磁場発生装置。
請求項（抜粋）：
銅線,アルミニウム線または超電導線からなる電磁石において、その発生磁場の磁気回路上に設置した超電導バルクを電磁石により着磁し永久磁石化することにより電磁石と超電導バルクの発生磁場を重畳させより強い磁場を発生させるとともに、強磁性体のフレームにより超電導バルク及び磁場印加対象物に磁場が集中するようにした強磁場を得ることを特徴とする超電導バルクを使用する磁場発生方法。
IPC (3件)：
H01F 7/02
, H01F 6/00 ZAA
, H01L 39/00 ZAA
