表面分析方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡田数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-338491
公開番号（公開出願番号）：特開2002-148157
出願日： 2000年11月07日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【課題】試料の前処理工程が簡略化され、しかも、各種の表面に付着したブリード物質や汚染物質の分子量および化学構造情報を正確に得ることが出来る、マトリックス支援レーザー脱離イオン化-飛行時間質量分析計(MALDI-TOF-MS)による表面分析方法を提供する。【解決手段】マトリックス支援レーザー脱離イオン化-飛行時間質量分析計による表面分析方法において、試料の表面にマトリックスを真空蒸着した後に紫外線レーザーを照射してイオン化を行って試料表面の化学物質に関連するマススペクトルを得る。

請求項（抜粋）：

マトリックス支援レーザー脱離イオン化-飛行時間質量分析計による表面分析方法において、試料の表面にマトリックスを真空蒸着した後に紫外線レーザーを照射してイオン化を行って試料表面の化学物質に関連するマススペクトルを得ることを特徴とする上記の表面分析方法。

IPC (3件)：

G01N 1/28 , G01N 27/62 , G01N 27/64

FI (3件)：

G01N 27/62 K , G01N 27/64 B , G01N 1/28 N

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