特許
J-GLOBAL ID：200903036292528361
光学物品及びそれを用いた露光装置又は光学系並びにその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-024444
公開番号（公開出願番号）：特開平8-220304
出願日： 1995年02月13日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：
【要約】【目的】 エキシマレーザー用途の光学特性を有し、光吸収が少なく、大面積に亘り均質な物理的特性を持ち、低温での成膜が可能で、膜応力による悪影響のない光学物品及びそれを用いた露光装置又は光学系並びにその製造方法を提供する。【構成】 本発明の光学物品は、光学薄膜が基体の表面に積層された光学物品において、前記光学薄膜が、クリプトン、キセノン、ラドンからなる群より選択された少なくとも1つの元素を含むことを特徴とする。また、第1の透光性薄層と該第1の透光性薄層より屈折率の高い第2の透光性薄層とを含む、反射防止膜が透光性基体の表面に設けられた光学物品、又は、増反射膜が基体の表面に設けられた光学物品において、少なくとも前記第1及び第2の透光性薄層のうちいずれか一方が、クリプトン、キセノン、ラドンからなる群より選択された少なくとも一つの元素を含むことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
光学薄膜が基体の表面に積層された光学物品において、前記光学薄膜が、クリプトン、キセノン、ラドンからなる群より選択された少なくとも1つの原子を含むことを特徴とする光学物品。
IPC (6件)：
G02B 1/11
, G02B 5/28
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
, H01L 21/027
, H01S 3/101
G02B 1/10 A
, G02B 5/28
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01S 3/101
, H01L 21/30 515 D
