特許

J-GLOBAL ID：200903036294376984

荷電粒子線光学系の収差評価方法、荷電粒子線装置調整方法、荷電粒子線露光方法、非点収差評価方法及び評価用パターン

発明者： 清水 澄人
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-187549
公開番号（公開出願番号）：特開2003-007591
出願日： 2001年06月21日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】 荷電粒子線光学系の効率的な収差評価方法を提供する。【解決手段】 評価用パターン50は、ドットパターン51を、このパターンと同等の幅から段階的に狭くした何種類かの幅のスペースを隔てて配列した何種類かの評価用パターン群53-1、53-2、53-3、53-4を有する。各パターン群53のドット51のつながり具合(ライン分離性)を観察することにより非点収差の補正条件を絞り込むことができる。非点収差によりビームのボケ量が大きくなると、隣り合うドットはあるスペース幅以下で分離できなくなり、このような状態を観察することにより非点収差の評価を行う。

請求項（抜粋）：

原版パターンを有するレチクルを通過した荷電粒子線を感応基板上に投影結像させる光学系における収差を評価する方法であって、該光学系で十分に解像可能な線幅のラインパターン又はドットパターンを、該線幅と同等の幅から段階的に狭くした何種類かの幅のスペースを隔てて配列した何種類かの評価用パターン群を、前記レチクル上に形成し、該レチクルを露光して該パターン群の像を取得し、該像におけるライン又はドットのつながり具合を観察することを特徴とする荷電粒子線光学系の収差評価方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/153 ,  H01J 37/28

FI (5件)：

G03F 1/08 P ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/153 B ,  H01J 37/28 B ,  H01L 21/30 541 N

Fターム (19件)：

2H095BA02 ,  2H095BA08 ,  2H095BE05 ,  2H095BE07 ,  2H095BE08 ,  2H095BE09 ,  2H097BA01 ,  2H097BB03 ,  2H097CA16 ,  2H097GB01 ,  2H097JA02 ,  2H097LA10 ,  5C033FF10 ,  5C033JJ03 ,  5C033MM07 ,  5C033UU10 ,  5F056AA22 ,  5F056CB29 ,  5F056FA05