特許
J-GLOBAL ID：200903036314158563
セメント成形品およびセメント成形物の表面平滑化工法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 義朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-102823
公開番号（公開出願番号）：特開平6-305856
出願日： 1993年04月28日
公開日（公表日）： 1994年11月01日
要約：
【要約】【目的】セメント成形物の表面を、低コストで、簡単かつ迅速に平滑化することのできる工法と、これによって得られる軽量かつ安価なセメント成形品とを提供することを目的としている。【構成】セメント成形品1の表面を高圧水洗して表面に隠蔽した巣孔11を掘り起こす素地清掃工程、セメント成形品1の表面にあらかじめ形成された凹部12にセメント系パテ3を充填する補修工程、セメント成形品1の表面全体にセメント系シーラー2を塗布し、このセメント系シーラー2を少なくともセメント成形品1の表面の巣孔11に充填させる下塗り工程、セメント成形品1の表面に塗布されたセメント系シーラー2の層を、セメント成形品1の表面が見えるか否かの程度まで研磨する研磨工程を具備したセメント成形品1などセメント成形物全般の表面平滑化工法およびこれによって得られるセメント成形品1である。
請求項（抜粋）：
セメント成形品の表面の凹部にセメント系パテが充填されるとともに、このセメント成形品の表面に隠蔽された巣孔が掘り起こされ、このセメント成形品の表面の巣孔に、該セメント成形品の表面全体を被覆するように塗布されたセメント系シーラーが充填され、このセメント系シーラー層が、セメント成形品の表面が見えるか否かの程度の厚みまで研磨されてなることを特徴とするセメント成形品。
IPC (3件)：
C04B 41/72
, B28B 11/08
, C04B 41/70
