特許

J-GLOBAL ID：200903036316794068

浄化装置

発明者： 依田 光弘
出願人/特許権者： 依田 光弘
代理人 (1件)： 大橋 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-367173
公開番号（公開出願番号）：特開平11-188375
出願日： 1997年12月25日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
要約：

【要約】【課題】 脱窒素作用の反応速度の大きな生物学的浄化装置を提供する。【解決手段】 内部を被処理水(TW)が浸透する第1の層(3)と、内部を前記被処理水(TW)が浸透しない第2の層(4)と、前記第1の層(3)と第2の層(4)との間に挟まれ、内部を浸透する被処理水(TW)の浸透抵抗が前記第1の層(3)における浸透抵抗より小さい第3の層(5)と、が積層されてなる浄化層(2)を備え、前記第1の層(3)から前記第3の層(5)への前記被処理水(TW)の流れを生じさせ、被処理水(TW)がこれら第1の層(3)と第3の層(5)において順次浄化される。

請求項（抜粋）：

被処理水を浄化する浄化装置であって、内部を被処理水が浸透する第1の層と、内部を前記被処理水が浸透しない第2の層と、前記第1の層と第2の層との間に挟まれ、内部を浸透する被処理水の浸透抵抗が前記第1の層における浸透抵抗より小さい第3の層と、が積層されてなる浄化層を備え、前記第1の層から前記第3の層への前記被処理水の流れを生じさせ、該被処理水がこれら第1の層と第3の層において順次浄化されることを特徴とする浄化装置。

IPC (4件)：

C02F 3/06 ,  A01K 63/04 ,  C02F 3/10 ,  C02F 3/34 101

FI (4件)：

C02F 3/06 ,  A01K 63/04 F ,  C02F 3/10 A ,  C02F 3/34 101 D