リンス剤組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細田芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-094270
公開番号（公開出願番号）：特開平11-295902
出願日： 1998年04月07日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：

【要約】【課題】紫外線照射設備等を必要とせず、しかもレジストパターンを損傷させることなく、現像することができる薬剤およびそれを用いた現像方法を提供すること。【解決手段】分子中にアミノ基、イミン基および式:【化1】で表わされる基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基と、炭素数1〜20の炭化水素基とを有し、分子量が45〜10000である窒素含有化合物を含有してなるリンス剤組成物、ならびにpHが10以上である現像液でレジストを現像する工程と、前記リンス剤組成物を用いてリンスする工程とを含むことを特徴とする現像方法。

請求項（抜粋）：

分子中にアミノ基、イミン基および式:【化1】で表わされる基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基と、炭素数1〜20の炭化水素基とを有し、分子量が45〜10000である窒素含有化合物を含有してなるリンス剤組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/32 501 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/32 501 , H01L 21/30 569 E

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平3-077951
特開平1-221741
特開平4-012359

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審査官引用 (5件)

特開平3-077951
特開平1-221741
特開平4-012359

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