特許
J-GLOBAL ID：200903036324891307
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-151584
公開番号（公開出願番号）：特開平9-312255
出願日： 1996年05月23日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：
【要約】【課題】 装置全体の傾きや揺れを抑え、しかもマスクステージと基板ステージとの同期性能の向上を図る。【解決手段】 マスクステージ16と基板ステージ14とがベース部材12上に浮上支持されているので、両ステージ16、14がリニアモータ13によって走査方向に沿って互いに逆向きに非接触で駆動され、この際の両ステージ16、14の動きがベース部材12その他に何等の力を作用させることもなく、運動量は保存される。ここで、ステージ16とステージ14の質量比が不図示の投影光学系の縮小倍率と同一に設定されているので、運動量保存の法則により、ステージ16とステージ14の速度比が投影光学系の縮小倍率の逆数となって、両ステージ16、14が正確に同期制御される。
請求項（抜粋）：
マスクを保持するマスクステージと感光基板を保持する基板ステージとを同期走査しつつ、前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して前記感光基板に転写する露光装置であって、空気軸受けを介してベース部材上に浮上支持された前記基板ステージと;前記基板ステージの質量の前記投影光学系の縮小倍率倍の質量を有し、前記ベース部材上に空気軸受けを介して浮上支持されたマスクステージと;前記両ステージ間に設けられ、前記両ステージを走査方向に沿って互いに逆向きに駆動する第1のリニアモータとを有する露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, H01L 21/68
H01L 21/30 514 Z
, G03F 7/20 521
, H01L 21/68 K
, H01L 21/30 515 G
, H01L 21/30 516 B
