特許
J-GLOBAL ID:200903036328287510
電解還元合成用陰極及びこれを備えた電解還元合成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
的場 基憲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-165647
公開番号(公開出願番号):特開2002-363784
出願日: 2001年05月31日
公開日(公表日): 2002年12月18日
要約:
【要約】【課題】 目的物の収率を向上でき、安全性も高く且つ耐久性にも優れた電解還元合成用陰極及びこれを備えた電解還元合成装置を提供すること。【解決手段】 有機物の電解還元合成に用いられる陰極である。貴金属母材と、この貴金属母材を構成する貴金属とは異種の添加金属を含有する。その水素過電圧が上記貴金属母材よりも高い。貴金属母材と添加金属を合金化して形成される。貴金属母材の表面に添加金属を被覆し、この添加金属を熱拡散させることにより、この貴金属母材の表面近傍に添加金属との合金層を形成することによっても得られる。
請求項(抜粋):
有機物の電解還元合成に用いられる陰極であって、貴金属母材と、この貴金属母材を構成する貴金属とは異種の添加金属を含有し、その水素過電圧が上記貴金属母材よりも高いことを特徴とする電解還元合成用陰極。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (11件):
4K011AA15
, 4K011DA10
, 4K021AC06
, 4K021AC12
, 4K021AC14
, 4K021BA18
, 4K021BA19
, 4K021DB05
, 4K021DB18
, 4K021DB31
, 4K021DC15
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