特許

J-GLOBAL ID：200903036331212334

パターン染色物の製造方法

発明者： 陶山 寛志 ,  角岡 正弘
出願人/特許権者： 日本写真印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-332765
公開番号（公開出願番号）：特開平10-158982
出願日： 1996年11月27日
公開日（公表日）： 1998年06月16日
要約：

【要約】【目的】 高解像度で光照射部の膜形状が染色後にも変形していないパターン染色物の製造方法を提供する。【構成】 キノンと光照射によりアミノ基が生成する官能基を有する高分子物質とを有効成分として含有する高分子薄膜1に部分的な光照射をした後、該高分子薄膜1を染色液と接触させることにより、光照射部のみを選択的に染色する。

請求項（抜粋）：

キノンと光照射によりアミノ基が生成する官能基を有する高分子物質とを有効成分として含有する高分子薄膜に部分的な光照射をした後、該高分子薄膜を染色液と接触させることにより、光照射部のみを選択的に染色することを特徴とするパターン染色物の製造方法。

IPC (4件)：

D06P 5/00 122 ,  D06P 5/00 ,  D06P 5/20 ,  G02B 5/20 101

FI (4件)：

D06P 5/00 122 ,  D06P 5/00 D ,  D06P 5/20 D ,  G02B 5/20 101