特許
J-GLOBAL ID:200903036334647846

液晶表示装置用電極基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-148242
公開番号(公開出願番号):特開平8-015727
出願日: 1994年06月29日
公開日(公表日): 1996年01月19日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】TFT形成側電極基板にカラーフィルターを形成する方法において、その歩留まりを改善すること。【構成】カラーフィルターを支持シート上に形成して転写シートを作成した上で、転写シート上のパターン不良のカラーフィルターを除いた良品のみをTFT形成側電極基板に転写する。次いでITO膜を形成して所定の形状にパターニングし、絶縁膜11を全面にコーティングし、遮光膜12を所望の形状に形成する。【効果】予め作成した転写シートからまとめて転写し形成するため、TFT基板の歩留まりを向上できる。また、最終的に配向膜面がほぼ平坦化されるので、高精細化が進んでも配向膜のラビング処理が確実に行われる。
請求項(抜粋):
アクティブマトリクス型液晶表示装置の製造工程において、画素電極以外の薄膜トランジスタ及び配線部を形成したTFT形成側電極基板に、転写シート上のカラーフィルターを紫外線硬化型接着剤を用いて貼り付け、TFT非形成面側から紫外線を照射し開口部上の接着剤を硬化させ、支持シートを剥がしてカラーフィルターを転写し、薄膜トランジスタ、配線部上の未硬化の接着剤を除去し、次いで全面にITO膜を形成し、これを所定の形状にパターニングすることによりドレイン電極と接続する画素電極となし、次いで少なくとも薄膜トランジスタと配線部を覆う遮光膜を所望の形状に形成することを特徴とする液晶表示装置用電極基板の製造方法。
IPC (5件):
G02F 1/136 500 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1343
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 特開平4-253028
  • 特開平3-167524
  • カラーフィルターの製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-150267   出願人:徳山曹達株式会社
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