特許
J-GLOBAL ID:200903036336373395
液晶表示装置の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
大坪 隆司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-077971
公開番号(公開出願番号):特開2009-265639
出願日: 2009年03月27日
公開日(公表日): 2009年11月12日
要約:
【課題】 スペーサ粒子を適正に配置することにより高品質な液晶表示装置を製造することが可能な液晶表示装置の製造方法を提供すること。【解決手段】 透明基板上にインクジェット方式によりスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を吐出することによりスペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成するスペーサ領域形成工程と、スペーサ領域が形成された透明基板を加熱することにより、スペーサ粒子分散液から揮発成分を蒸発させるとともに、スペーサ領域のスペーサ粒子を透明基板に固着させる乾燥工程と、スペーサ粒子が固着した透明基板を液体で洗浄することにより、スペーサ領域以外に存在するスペーサ粒子を除去する洗浄除去工程とを備える。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板間にスペーサ粒子を介在させることにより液晶層封入用のギャップを形成する液晶表示装置の製造方法であって、
基板上にインクジェット方式によりスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を吐出することによりスペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成するスペーサ領域形成工程と、
前記スペーサ領域が形成された基板を乾燥させることにより、スペーサ粒子分散液から揮発成分を蒸発させるとともに、前記スペーサ領域のスペーサ粒子と基板を固着させる乾燥工程と、
前記スペーサ粒子が固着した基板を液体で洗浄することにより、前記スペーサ領域以外に存在するスペーサ粒子を除去する洗浄除去工程と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (7件):
2H189DA04
, 2H189FA09
, 2H189FA10
, 2H189FA56
, 2H189FA82
, 2H189HA16
, 2H189LA14
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